紹介

平成28年9月導入!
エレクトロポレーション法を用いて培養細胞へ遺伝子を導入する装置です。電気パルスをかけることにより、細胞膜を一過的に破断して導入を行いますが、4ステップ式マルチパルス方式に減衰率設定機能が加わり、これまで以上に高導入、高生存率です。
専用キュベットによる方法だけでなく、付着細胞用脚付電極を使用することにより、マルチウェルディッシュ上で、付着(接着)状態の細胞に直接遺伝子を導入することもできます。

詳細

この機器について

医学科内の方は機器の持ち出しが可能です。
医学科外の方は、培養室内でご利用ください（ご利用前に要相談)。
キュベットは各自でご用意ください。
付着細胞用脚付電極(24well用)、MS白金プレート電極(1mm gap用）、
MS白金プレート電極(5mm gap用）も7階管理室にて貸し出しております。


ご使用のプロトコール等は、以下にお問い合わせ下さい。
問い合わせ先：ネッパジーン株式会社　営業部　松本光二朗氏
　　　　　　　TEL：080-3501-5217, E-mail：matsumoto[at]nepagene.jp